用半径-电荷比研究SiHmXn和CHmXn型分子的标准生成焓

谢兵; 冯琳; 杨锋; 罗明道; 屈松生

用半径-电荷比研究SiH_mX_n和CH_mX_n型分子的标准生成焓

谢兵¹,
冯琳²,
杨锋³,
罗明道⁴,
屈松生⁴

1.
贵州民族学院化学系, 贵州贵阳 550025
2.
重庆师范学院化学系, 重庆 400715
3.
武汉科技学院环科所, 湖北武汉 430073
4.
武汉大学化学系, 湖北武汉 430072

详细信息

作者简介:
谢兵（1964）, 男, 讲师, 1984年毕业于西南师范大学化学系, 获学士学位, 主要从事结构化学教学和科研工作

中图分类号: O64
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出版历程
- 收稿日期: 2000-09-22
- 刊出日期: 2001-05-25

STUDY ON STANDARD FORMATION ENTHALPIES OF SiHmXn AND CHmXn MOLECULES WITH CHARGE/RADIUS OF ATOMS

1.
Department of Chemistry, Guizhou Institute for Nationalities, Guiyang 550025, China
2.
Department of Chemistry, Chongqing Normal College, Chongqing 400715, China
3.
Institute of Environmental Science, Wuhan Institute of Science and Technology, Wuhan 430073, China
4.
Department of Chemistry, Wuhan University, Wuhan 430072, China

摘要

摘要: 本文用原子的半径-电荷比定义原子结构参数P_i和分子结构参数P.用P分别研究了含氢分子SiH_mX_n和CH_mX_n (X =F, Cl, Br, I) 的标准生成焓, 二者呈良好的线性关系.本文的定义考虑了氢对分子结构和性质的贡献
- 半径-电荷比 /
- SiHmXn /
- CHmXn /
- 标准生成焓 /
- 相关性
Abstract: The atomic and molecular structure parameters P_i and P are defined as: P_i= . The correlation relationships between P and the standard formation enthalpies of SiH_mX_n, CH_mX_n (X=F, Cl, Br, I) are studied showing the correlation coefficients 0.976 5, 0.975 2, respectively.
- ratio of charge radius /
- SiH_mX_n /
- CH_mX_n /
- standard formation enthalpies /
- correlativity

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表 1 SiH_mX_n (气态) 的分子结构参数P和标准生成焓Δ_fH_m^⦵的实验值^{[9, 10]}

Table 1. Molecular structural parameters P and experimental value of standard formation enthalpies Δ_fH_m^⦵ of SiH_mX_n molecules (gas state)

表 2 CH_mX_n (气态) 的分子结构参数P和标准生成焓Δ_fH_m^⦵的实验值^[11]

Table 2. Molecular structural parameters P and experimental value of standard formation enthalpies Δ_fH_m^⦵ of CH_mX_n molecules (gas state)

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